周二午后，光刻胶概念股继续飙升。到发稿，强力新材、容大感光、南大光电3股涨停，晶瑞股份、江化微、金龙机电、光华科技等多股亦涨超7%。整个概念板块指数涨幅5.8%，位居涨幅榜首位，远远抢先大市。
消息面，据外媒最新报导，日本经济工业省现已部分解除了对韩国出口光刻胶的约束。往后，日本企业能够向LG、三星、SK海力士等韩国企业供应最多三年的光刻胶出口合同，而不用每一笔出口都要取得答应。
据悉，光刻是整个集成电路制作进程中耗时最长、难度最大的工艺，耗时占IC制作50%左右，本钱约占IC出产所带来的本钱的1/3。光刻胶是光刻进程最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。
中银世界表明，集成电路光刻工艺环节，包含涂胶、光刻、显影、刻蚀、去胶、清洗、烘干等，因而光刻工艺设备，主要是指光刻机、涂胶显影设备、去胶设备和相关检测设备。全球89%的光刻机商场被ASML独占，全球88%的涂胶显影设备商场被TEL独占，光刻机和涂胶显影设备国产化率十分低；去胶设备国产化率到达81%，去胶设备主要是屹唐半导体完成国产化。
广发证券以为，根绝计算国内晶圆出资状况，建厂热潮直接带动晶圆代工工业链快速生长，光刻胶直接用于实践出产的悉数进程且具有收购相对敏捷特色，估计2019—2020年为国内光刻胶需求快速放量期。在供应端，国家方针推进自主可控、国内光刻胶技能逐渐打破、代工厂商分摊供货商危险将继续推进内资晶圆代工厂商提高对国产光刻胶的承受程度，给予国内优质的光刻胶厂商快速生长的时机。
国元证券以为，光刻胶作为技能门槛极高的电子化学品一向被世界企业独占。跟着大力研制和投入，国内企业已逐渐从低端PCB光刻胶开展至中端半导体光刻胶的量产，以科华微电子和晶瑞股份为代表的企业现已完成了i线光刻胶的打破并取得下流量产订单。以强力新材为代表的企业也现已完成了光刻胶上游光引发剂和光酸等原资料的国产化，打破世界独占，跟着更多国内晶圆厂的新建，下流客户导入也有望加快，工业链的完善有助于上游企业更好的开宣布更先进的产品。
国元证券以为，光刻胶因为研制和下流导入周期都较长，往往需求企业长时间的堆集，因而光刻胶也只作为电子化学品公司其间一个产品，如晶瑞股份还出产高纯试剂，飞凯资料还出产液晶资料；光刻胶技能门槛高，周期长，一旦完成量产和下流导入，将成为公司较为长时间的高毛利率产品，给予光刻胶等相关电子化学品职业“引荐”评级。主张重视职业已量产和成绩安稳类企业如晶瑞股份、飞凯资料、南大光电等。
